开局从买房开始 - 第二百二十四章:无法绕开的难题

上一章 目录 下一章
    euv光源的技术基本只掌握在花旗国 cymer公司手中,星光科技公司作为一家华夏公司,基本上不可能与対方达成技术合作,因为花旗国政府,就不会同意。
    euv光刻机——顶级科学与顶级制造的结合。
    euv波长只有13.5nm,穿透物体时散射吸收强度较大,这使得光刻机的光源功率要求极高,此外机器内部需是真空环境,避免空气对euv的吸收,透镜和反射镜系统也极致精密,配套的抗蚀剂和防护膜的良品率也需要更先进技术去提升。
    一台euv光刻机重达180吨,超过10万个零件,需要40个集装箱运输,安装调试都要超过一年时间。总之,euv光刻机几乎逼近物理学、材料学以及精密制造的极限。
    所以euv不仅是顶级科学的研究,也是顶级精密制造的学问。
    二零一零年首发euv光刻机,目前成为全球唯一一家euv光刻机供应商。
    二零一零年,阿斯慢首次发售概念性的euv光刻系统nxw:3100,从而开启光刻系统的新时代。
    二零一三年,阿斯慢发售第二代euv系统nxe:3300b,但是精度与效率不具备10纳米以下制程的生产效益。
    今年又推出了第三代euv系统nxe:3350,但仍然只是试产的性质。
    历史上,阿斯慢公司要到明年,也就是二零一六年,第一批面向制造的euv系统nxe:3400b,才会开始批量发售,
    nxe:3400b的光学与机电系统的技术有所突破,极紫外光源的波长缩短至13nm,每小时处理晶圆125片,或每天可1500片。
    连续4周的平均生产良率可达80%,兼具高生产率与高精度。
    三年后推出的nxe:3400c,更是将产能提高到每小时处理晶圆175片。
    目前,阿斯慢在售的euv光刻机包括nxe:3300b和nxe:3400c两种机型。
    euv成功来源于阿斯慢光刻机上游产业链的贯通。
    在euv光刻机超过10万个零件之中,来自硅谷光科集团的微激光系统、德国蔡司的镜头和cymer的euv光源是最重要的三环。
    一九九七年英特尔牵头创办了euv llc联盟,随后阿斯慢作为惟一的光刻设备生产商加入联盟,共享研究成果;二零零零年,阿斯慢收购了花旗国光刻机巨头svgl(硅谷光刻集团);二零一二年,阿斯慢收购euv光源提供商cymer,此前cymer就和阿斯慢已经合作已久。
    二零一六年,阿斯慢公司取得光学镜片龙头,德国蔡司百分之二十四点九的股份,以加快推进更大数值孔径(na)的euv光学系统。
    这些收购使得阿斯慢几乎参与了整个euv光刻上游产业链。
    但收购花旗国企业的过程,使阿斯慢必须同意,在花旗国建立一所工厂,和一个研发中心,以此满足所有花旗国本土的产能需求。
    另外,还需要保证百分之五十五的零部件,均从美国供应商处采购,并接受定期审查,这也为日后阿斯慢,向华夏国出口光刻机受到花旗国管制埋下了伏笔。
    euv设备在下游市场供不应求。由于上游零部件供应不足(如蔡司的镜头),阿斯慢的euv光刻机产量一直不高,而下游市场对7nm制程的需求却十分旺盛。2011年英特尔、三星和台急电共同收购阿斯慢23%的股权,帮助阿斯慢提升研发预算,同时也享受euv光刻机的优先供应权。
    近年来,阿斯慢已经出货的euv光刻机主要优先供应给台积电、三星、英特尔等有紧密合作关系的下游厂商。目前所有中国企业中,还没有任何一家企业,能够从阿斯慢订购到euv光刻机。
    而且此时的华夏企业,对于阿斯慢的euv光刻机,似乎并没有很迫切的需求,毕竟阿斯慢公司的浸润式duv光刻机,并没有停止出口华夏市场,而且星光科技集团也能生产duv浸润式的光刻机,完全可以满足国内的需求。
    至于10纳米以下的制程工艺,华夏国内的市场需求银少,所以更高端的极深紫外线euv光刻机,华夏国内的市场需求并不迫切。
    可是全球智能化科技,是在飞速发展的,随着科技的发展,人民对于芯片的要求会越来越高,几年之后,全球会向5g,甚至6g技术发展,那个时候要用到的智能芯片,必须要用5纳米以下的制程技术,甚至是1纳米的制程技术。
    那个时候,再怎么研究推进,浸润式duv光刻机,也不可能达到5纳米以下的制程技术。
    研发投深紫外线暴光技术的euv光刻机,便是最终无法绕开的办法。
    可是华夏的光刻机研发生产企业,除了一个星光科技集团,就只有沪上的微电子集团了。
    可微电子集团的光刻机技术,比星光科技集团尚且差了不少的距离,更别说和国外的几大光刻机企业相比了,微电子集团的光刻机技术,现在还停留在90纳米的制程工艺上。
    星光科技集团,集中了数以千计的科技研发人员,想要在euv光刻机技术上有所突破,打破阿斯慢公司的技术垄断,追赶上阿斯慢,造出一台符合5纳米制程以下的euv光刻机,并不是件很容易的事情,甚至连能不能办到,都是一个未知数。
    这并不是开玩笑,有些技术难题,不是说你努力了,你不计成本的砸了资金进去,就一定能够成功的。
    看看阿斯慢研究出euv光刻机技术的过程,便十分的清楚了。
    如果没有花旗国科研力量的贡献,没有欧美各国一些公司的技术支持,阿斯慢也研发不出euv光刻机。
    可以不客气的说,euv光刻机不是阿斯慢一家公司,单独研究出来的结果。
    而且这个研发完善的光程,也长达十几年之久。
    星光科技公司再怎么历害,不缺科技研发人才,不缺研发资金,但想要研发出euv光刻机的技术,也是比登天还难。
    关键是上游的产业链,华夏国内根本无法具备,必须要依赖进口。
    而想要进口这些高精技术,往往又受到了欧美各国的技术封锁,你有钱也未必能买到。
    最稳妥的办法,就是在国内寻求一些这方面的企业合作,投入资金和技术人员,提升这些企业的技术,力求达到能够生产出,供应星光科技集团,研发生产euv光刻机的技术要求。
    另外就是寻求国家层面的技术支持,毕竟泱泱华夏,集全国之力,想要研发出一项技术,比星光集团一个企业的力量,不知道要大多少倍。
    星光科技集团办不成的事情,国家出面,由国家的一些科学家研究出来,还是比较容易的。
    在国家一穷二白的时候,尚且能研发出二弹一星,现在的条件比以前,要强了不知道多少倍,全力想研发出一项科研成果,应该是没有什么问题的。

添加书签

搜索的提交是按输入法界面上的确定/提交/前进键的

上一章 目录 下一章