科技最巅峰 - 第130章 接近式曝光光刻机

    “呸！”小芳作势吐了一下，结果什么也没有吐出来：“按照年龄我当你姑奶奶都可以了，乖乖，叫一声让我听听！”
    “好了好了，我们接下来继续吧。”王昊天不敢在年纪上大做文章，如果真的算的话，就算喊王小芳姑奶奶也是王昊天占了便宜了……
    听起来气不气人！
    谁让人家王小芳活着时间久呢！
    喊姑奶奶是不可能的，一辈子都不可能的！
    这是王昊天最后的倔强！
    “哼哼，按操作的简便性光刻机也是分为三个层次的，手动、半自动、全自动！”
    “这里边手动的精准度是最低的，你想想嘛用手调节机器精准度能有多高啦，就算这台仪器要求仅仅是45纳米的，我也必须尽可能地提升这台仪器的精准度！”
    “所以我选择的是全自动的，中间完全由程序控制，精准度控制在最小的范围之内。”
    “由于我的原因，这台光刻机的精密机械工艺已经到达了近乎完美的地步了。”小芳自豪地说道。
    王昊天赶紧陪着着竖了一个大拇指：“我家小芳棒棒哒……”
    “哼哼，因为精密机械工艺高，这就使得对准系统非常高，但是想要提高对准系统的精准度，仅仅需要高精密的机械工艺还是不行的，还需要好的对准显微镜！”
    “为了提高显微镜的市场，我专门选择的是led光照，效果更好！”
    “显微镜的镜片也是经过我多重打磨，表面非常平整，至于到了什么地步了呢，我给你打个比方你就知道了，如果把我制作的镜片放大到三十万平方公里这么大，整块的镜片表面的平整误差不会超过一米的，你可以想想这个是什么概念！”
    听后王昊天沉默了。
    自己国家差不多就是963万平方公里，差不多一个大国土地的百分之三了……
    不敢想象！
    看见王昊天沉默了，王小芳更加得意了：“这算什么？？？”
    “这还是duv光刻机呢，要是换做了euv光刻机，那要求更高，如果把我制作的镜片放大到三十万平方公里这么大，整块的镜片表面的平整误差不会超过一厘米！”
    “一厘米……”王昊天喃喃地说道。
    “以你们这个星球的水平能做到这种程度的也就仅仅德意志国家的蔡司公司能做到罢了。”王小芳已经不是一个一个国家的贬低了，现在直接开口你们星球，你们星球了……
    赤果果的歧视啦。
    “对于显微镜，我这边一共安装了两套，就是为了提高精准度！”
    “至于工作台，光刻机可以说有三个工作台，一个工作台是放置掩膜的，一个工作台是放置涂有光刻胶的硅圆片的，另一个工作台就是放置成品的，也是放置硅片，也就是检测台，为了检测芯片的性能！”
    “相比较而言，前两个工作台在整个生产芯片的环节之中占有非常重要的位置！”
    “就是这两个平台可以分为两种，一种是相对静止，这种的需要在掩膜上刻下所有的芯片线路图，在光束照耀下光刻胶上就会刻下线路图，不过这样有一个缺点，那就是受光面积太大，使得光比较分散，影响成品率。”
    “另一种就是两个平台相对运动，光束随着掩膜平台运动，这样使得光束聚光好，形成了线路图效果好，成品率高，但是……对机械精密度要求极高！”
    “以我们的duv光刻机，误差能做到10纳米，这已经够用了，要是euv光刻机，那就要求高了，误差必须在2纳米以下，而且两个工作台的加速度必须达到炮弹发射时的加速度，此外对温度变化也有过分到变态的要求，温度上下浮动不能超过千分之一！”
    “我们这一台duv光刻机选择的是两个平台相对运动的，这样精度更高！”
    “至于掩膜和硅圆片的相对位置进行曝光也可以分为以下三大种。”
    “分别是接触式曝光、接近式曝光、投影式曝光！”
    “当然了，最好的是投影式曝光，不过我们现在的光刻机根本就没有必要采用投影式曝光，我们选择的是接近式曝光就可以了，满足我们的使用要求。”
    “至于接触式曝光，那也可以分为三小种的，一种是软接触，一种是硬接触，最后一种是真空接触！”
    “不管名字怎么起，但终究是接触式曝光，这种曝光有一个缺点，那就是掩膜和涂有光刻胶的硅圆片相互接触，这非常容易对掩膜造成伤害，使得掩膜板的寿命大大降低，所以就算在你们星球上这种接触式曝光已经渐渐被淘汰了。”
    说道这里王小芳看了一眼王昊天：“你们国家现在能自主生产的光刻机统统是接触式曝光。”
    王昊天：“……”
    “我本来打算选用投影式曝光的，不过想想还是算了，你不是想要提升你们国家的制造水平嘛，我如果用了投影式曝光，将来你们国家其他人研究起来那还不得抓瞎啊，所以我选择了接近式曝光，这样你们也有头绪，研究起来不会感到绝望！”
    王小芳的意思很明确，那就是现在刚刚学会走路，不要着急跑，要先走稳了再说跑的事情，一步一步来。
    “至于接近式曝光……如名字一样，就是掩膜板和涂有光刻胶的硅晶圆片之间有一个小间隙，至于多大呢，大约的范围是200um已下，当然了肉眼是看不见的。”
    “至于投影式曝光呢，那就复杂了，不过可以给你简单的讲解一下，分为扫描投影曝光、步进重复投影曝光、扫描步进投影曝光”
    “要求都非常高，就算是我以现在的条件想要制造出来euv光刻机也是需要花费很长的时间的，也幸亏你要求我制造的是duv光刻机，而且还是45纳米的，难度下降了不止一个档次。”
    这一次王小芳终于说了实话了。
    “总而言之，制造出一台光刻机的精密度很大程度上反应出来了一个国家的工业水平，不说别的，就算我制造的这一台光刻机吧，它就包含着10个分系统，两万多个机械件以及180个传感器，而且这上边所有的零件不能出现一个问题，只要有一个出现问题，整台机器就不能够使用了。”
    “真的是牵一发而动全身啊。”